牛津儀器作為世界領先的等離子刻蝕和沉積系統供應商，不斷致力于改善和開發(fā)該系統，以便為客戶提供提供最好的設備。

　　新系統的作用：

　　• 伴隨高品質的二氧化硅和氮化硅沉積速率，PECVD硬件進一步演變，相應的減少清機時間成本。

　　• 新一代Cobra ICP系統改善了刻蝕率和線寬操控功能。

　　• 具有業(yè)界公認的機械手功能，鞏固了牛津儀器在“即插即用”的硬件和優(yōu)化程序方面的領先地位。

　　• 增強了控制系統的基礎設施，具有更好的分析、可靠性和可維護性。

　　PlasmaPro 100是一個高配置的系統，既可以作為獨立腔體模塊，也可以多腔配置。

　　“正常運行時間超過90%，這個數據證明了我們設備的技術和自動化在業(yè)內處于領先地位，”高級產品經理Ian McKinlay談到，“此新產品做到真正的改進，具有良好的均勻性，并在應用范圍內提供高產能程序。我們獨家擁有6000多個工藝參數。憑借此項優(yōu)勢，25年來牛津儀器在業(yè)界一直處于領先地位，同時也確保了我們能將優(yōu)異的產品提供給客戶。”

PlasmaPro 100系統